一、絮凝沉降設(shè)備（4組）的實驗目的：

　　絮凝沉淀的特點是顆粒在沉淀過程中其尺寸、質(zhì)量會隨深度增大而增大，因而沉速也隨深度而增大。絮凝顆粒的沉淀軌跡是一條曲線，但難以用數(shù)學方法表達，因此要用實驗室的沉淀分析來確定必要的設(shè)計參數(shù)。

　　通過本實驗希望達到下述目的：

　　1、了解絮凝沉淀的特點和規(guī)律;

　　2、掌握絮凝沉淀的實驗方法和實驗數(shù)據(jù)的整理方法。

二、絮凝沉降設(shè)備(4組)的實驗原理：

　　絮凝顆粒A、B在沉淀過程中互相碰撞后形成了新的顆粒AB，由于其尺寸增大，故沉速Vab明顯大于A、B二顆粒各自的沉速Va和Vb，并沿著新的軌跡下沉。由于生產(chǎn)性沉淀池中水力特性的影響，實際的絮凝沉淀工程遠比圖3-1所示現(xiàn)象復雜。顆粒碰撞時可能有互相阻礙作用，故在絮凝期間，顆粒向下運動的同時也可能向上運動。此外，顆粒到達池底以前還可能因液流的作用被破碎。目前尚無理論公式可用以描述沉淀池中的這一復雜現(xiàn)象，一般是通過沉淀柱中的靜態(tài)試驗來確定某一指定時間的懸浮物去除率。將此實驗結(jié)果用于生產(chǎn)性沉淀池設(shè)計時，為了補償紊流、短流和進出口損失的影響，埃肯費爾德(Eckenfelder)建議，根據(jù)實驗選定的溢流率應除以1.25-1.75的系數(shù)，停留時間應乘以1.5-2.0的系數(shù)。

三、絮凝沉降設(shè)備(4組)的主要技術(shù)指標及參數(shù)：

　　1、環(huán)境溫度：5℃～40℃

　　2、沉淀柱直徑:100mm×1700mm

　　3、裝置外形尺寸：700 mm×700 mm×2500 mm 數(shù)量：4組 (根)、

　　4、工作電源：AC220V±10%、50Hz，單相三線制，功率220W，安全保護：具有接地保護、漏電保護、過流保護;、

四、絮凝沉降設(shè)備(4組)的主要配置：

　　1、沉淀柱4套(包括標尺)：透明有機玻璃材質(zhì)、壁厚6mm，Φ100mm×1700mm，沉淀柱上設(shè)溢流管、取樣管、進水及放空管各一個;

　　2、原水箱1個：白色PP板、厚度10mm，底板上安裝有放空閥，方便將水排凈;

　　3、原水箱配電機攪拌1臺、304不銹鋼攪拌槳1套;(功率25W、轉(zhuǎn)速90rpm)、

　　4、304不銹鋼潛水泵1臺：額定流量25L/min、額定揚程5m、額定功率150W;

　　5、布水管道閥門6套(UPVC給水管閥);

　　6、銅制球閥取樣口、5只/根，共計20只;

　　7、電源控制系統(tǒng)：雙面亞光密紋噴塑電控箱1只、漏電保護器、電壓表、帶鎖按鈕開關(guān)、線管等組成，

　　8、配套UPVC連接管道和閥門(中財品牌)。

　　9、不銹鋼框架實驗臺(30mm×30mm不銹鋼方管、配腳輪為萬向輪帶禁錮腳)等組成。

五、絮凝沉降設(shè)備(4組)的軟件組成：

　　公司提供與本裝置的實物配套使用3D交互式動態(tài)仿真軟件1套、(虛擬實訓系統(tǒng))。

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